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近，有飛納電鏡用戶詢問關于電子束分析樣品時可以穿透樣品的深度的問題，這里小編將為大家詳細介紹一下。
掃描電鏡是利用聚焦電子束進行微區(qū)樣品表面形貌和成分分析，電子從發(fā)射源（燈絲）經光路系統(tǒng)終到達樣品表面，電子束直徑可到 10 nm 以下，場發(fā)射電鏡的聚集電子束直徑會更小。
聚焦電子束到達樣品表面會激發(fā)出多種物理信號，包括二次電子（SE），背散射電子（BSE），俄歇電子（AE）、特征X 射線（X-ray）、透射電子（TE）等。
· 二次電子 信號主要來自樣品表面，其深度范圍 10 nm ，成像具有較高分辨率，能夠很好的反映樣品形貌特征。
· 背散射電子 是入射電子被樣品原子核反彈回來的部分電子，電子能量較高，信號深度范圍可到 2 μm。
· X 射線 可以從樣品較深的位置出射，其深度范圍可到 5 μm。
圖1 不同樣品信號深度
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